Yüksek saflıkta pvd titanyum püskürtme hedefi Metal hedef özelleştirilmiş

Yüksek saflıklı pvd titanyum püskürtme hedefi

Sputtering hedefi, çalışma prensibine göre döner hedefe, düz hedefe, çoklu yay hedefine ayrılabilir.

Malzemeye göre saf demirsiz metal hedefi, saf titanyum Ti, saf nikel Ni, krom Cr, niobium Nb, alüminyum Al, molibden Mo olarak bölünebilir.Tüm metaller hedef olarak kullanılabilir.Sağlayabileceğimiz püskürtme hedefleri: alaşım hedefleri, zirkonyum alüminyum ZrAl, nikel krom NiZr, titanyum alüminyum TiAl, titanyum nikel TiNi, nikel krom NiCr, bakır titanyum TiCu vb.Alloy hedefinin metal oranı bir örnek olarak titanyum-alüminyum alaşımıdır: 50:50 wt% kütle oranı, 80:20at% atom oranı.

Ürün Adı:Titanyum püskürtme hedefi

Saflık:99.5%, 99.95%, 99.98%, 99.995%.

Boyut:çapı 300*40mm, çapı 300*25mm, 100*40mm, 99*40mm, 65*40mm vb. veya müşterilerin çizimleri.

Malzeme:

1.Saf titanyum: GR1 GR2

2.Titanyum alaşımı: Gr5 titanyum, titanyum alüminyum TiAl, titanyum nikel TiNi, titanyum krom TiCr, titanyum zirkonium TiZr, bakır titanyum TiCu vb.

3.Diğer malzemeler: Zirkonyum püskürtme hedefleri, krom püskürtme hedefleri, volfram püskürtme hedefleri, bakır püskürtme hedefleri vb.

Uygulamalar:Dekoratif kaplama, Donanım alet kaplama, Yarım iletken, Düz panel ekranlar

Özellikleri:Rekabetçi fiyat, Yüksek saflık, Tahıl rafine edilmiş, Mühendislik mikrostruktur

(ortalama taneler büyüklüğü < 20 um),Yarı iletken sınıfı

Detaylı resimler:

Vakum kaplama:bir film yapma yöntemi) bu doğruluk gerekliliğini karşılayabilir.

Vakum kaplamanın avantajları:1Bu süreç endüstriyel atık su, atık gaz veya atık kalıntıları üretmez ve büyük çevresel avantajlara sahiptir.Ürüne zarar vermeyecek malzeme ve orijinal performansÜretilen filmin kalınlığı mikron nanometre seviyesinde olduğundan ve film kalınlığı tekdüze olduğundan, ürünün görünümüne ve boyutuna zarar vermez.ve doğruluğu son derece yüksek..

Şirketimiz hakkında: